高錳酸鉀處理磷烷廢氣

半導體工業的有毒廢氣主要來自晶體外延、干法刻蝕、CVD等工藝。在這些工藝中，使用了例如硅烷(SiH4)、磷化氫(PH3)、四氟化碳(CF4)、硼烷、三氯化硼等各種高純度特殊氣體來處理晶片。會產生有毒性、窒息性以及腐蝕性的磷烷廢氣。這種廢氣必須經過處理才能排放。那么，如何處理磷烷廢氣呢？

現有技術中，最常用的是使用高錳酸鉀溶液處理含磷烷烴廢氣，高錳酸鉀溶液自上而下噴淋，在噴淋塔中接觸吸收含磷烷烴廢氣，而含砷廢氣則一般采用高錳酸鉀氧化法處理。處理該類廢氣的具體方法是：首先把高錳酸鉀溶液裝入二級過濾裝置中，把氣體通入高錳酸鉀溶液內進行反應產生的結晶通過排污口排出，防止產生的結晶物堵塞噴淋系統，且廢氣從高錳酸鉀溶液內經過使廢氣與溶液充分接觸反應，使凈化效果更好；其次廢氣通過二級過濾裝置的高錳酸鉀溶液吸收后，再通過三級過濾裝置噴淋堿液再次吸收，最后通入臥式過濾罐內通過加熱棒加熱把把殘留的廢氣完全吸收在排放出去，使磷烷尾氣凈化效果更好。

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